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紧凑型无掩膜直写光刻设备
此款设备为紧凑型无掩膜直写光刻设备,广泛应用于IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工高精密定位工作平台,可实现6英寸的基底尺寸(可扩展),可实现0.6μm的亚微米线宽分辨率,配备高精度套刻和背面对准功能(可选配),并可接受客制化订制。